Table 2.

XRD pattern of GaN nano-crystalline films over P-Si substrate.

Laser Fluence (mJ/mm2)	Film orientation (hkl)	2theta (Degree)	Full width at half maximum (Degree)	Crystallite size (nm)	Interplanner spacing (nm)
530	<100>	32.840	0.390	21.260	0.271
	<110>	57.921	0.170	53.471	0.152
	<103>	61.720	0.170	54.501	0.151
618	<100>	33.0	0.202	40.861	0.271
	<110>	58.921	0.150	60.900	0.152
	<103>	61.761	0.141	66.202	0.151
707	<100>	33.041	0.181	46.090	0.271
	<110>	59.160	0.230	39.762	0.152
	<103>	61.761	0.161	57.922	0.151
795	<100>	33.041	0.170	48.801	0.271
	<110>	59.801	0.061	152.932	0.152
	<103>	61.760	0.130	71.291	0.151
884	<100>	33.041	0.171	48.802	0.271
	<110>	59.761	0.050	183.481	0.152
	<103>	61.760	0.131	71.292	0.151