表 2. 实验组抛光过程.

Tab 2 Polishing process of experimental groups

组别	磨粒粗细（抛光时间）
	粗（25 s）	中（35 s）	细（20 s）	精细（20 s）
SF	-	White Stones	PC2 0262、PC2 0265、PC2 0268	CeraMaster0126
3M	2382C	2382M	2382F	2382SF
Tob	CD 2024	SD 2063	RD 2067A	-
EVE	DYP-14m	-	H2DPmf	H2DP
Ivo	-	CUP F	CUP P	尼龙刷抛光膏

注：5种工具均按从粗到细的程序依次抛光，采用单向重叠抛光手法，转速为厂商推荐的最大转速；-表示套装中无对应粗细的抛光磨头；SF组中PC2 0262、PC2 0265、PC2 0268磨头各抛光20 s。