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. 2022 Feb 1;138:83–115. doi: 10.1016/j.wasman.2021.11.009

Table 5.

Overview of metal contaminant levels found in plastic pyrolysis products based on literature data.

Original concentration Liquid fraction Concentration Detection technique LOD Reference
Al n.a. Residue 16400 ppm n.a. n.a. (Okuwaki et al., 2006)
n.a. 55 °C – 180 °C
195 °C – 320 °C
250 °C – 500 °C
Full range + ash
Solid residue		 <0.2 ppm
ND
17 ppm
150 ppm
15000 ppm		 JIS K 0102 58.4 n.a. (Okuwaki et al., 2006)
n.a. Solid residue 1
Solid residue 2		 <400 ppm
2500 ppm		 n.a. n.a. (Okuwaki et al., 2006)
n.a. C4 – C20
Dist. residue		 2 ppm
2 – 2.7 ppm		 ICP-OES n.a. (Cho et al., 2010)
8320 ppm C8 – C28 <200 ppm ICP-OES n.a. (Velghe et al., 2011)
As n.a. Solid residue <0.1 ppm JIS K 0102 61.3 n.a. (Okuwaki et al., 2006)
n.a. Solid residue <1 ppm n.a. n.a. (Okuwaki et al., 2006)
Ba n.a. C4 – C20

Dist. residue		 1 ppm
3.2 – 21 ppm		 ICP-OES n.a. (Cho et al., 2010)
Ca n.a. 55 °C – 180 °C
195 °C – 320 °C
250 °C – 500 °C
Full range + ash
Solid residue		 17 ppm
2 ppm
82 ppm
8200 ppm
10 wt%		 JIS K 0102 50.3 n.a. (Okuwaki et al., 2006)
n.a. Solid residue 1
Solid residue 2		 1000 ppm
2500 ppm		 n.a. n.a. (Okuwaki et al., 2006)
189 ppm >C30 368 ppm EDXRF 1 ppm (Miskolczi et al., 2004)
1504 ppm 118 °C – 376 °C 297 ppm EDXRF n.a. (Miskolczi et al., 2013)
7700 ppm C8 – C28 <30 ppm ICP-OES n.a. (Velghe et al., 2011)
Cd n.a. Solid residue 3.3 ppm JIS K 0102 55.3 n.a. (Okuwaki et al., 2006)
n.a. Solid residue 13 ppm n.a. n.a. (Okuwaki et al., 2006)
Cr n.a. Solid residue 3 ppm n.a. n.a. (Kaminsky and Kim, 1999)
n.a. Solid residue 24 ppm n.a. n.a. (Okuwaki et al., 2006)
n.a. 55 °C – 180 °C
195 °C – 320 °C
250 °C – 500 °C
Full range + ash
Solid residue		 <0.2 ppm
ND
8.2 ppm
37 ppm
200 ppm		 JIS K 0102 65.1.4 n.a. (Okuwaki et al., 2006)
n.a. Solid residue 28 ppm JIS K 0102 65.1.4 n.a. (Okuwaki et al., 2006)
n.a. C4 – C20
Distillation residue		 1 ppm
1–4 ppm		 ICP-OES n.a. (Cho et al., 2010)
Cu n.a. Solid residue 270 ppm n.a. n.a. (Okuwaki et al., 2006)
n.a. 55 °C – 180 °C
195 °C – 320 °C
250 °C – 500 °C
Full range + ash		 0.6 ppm
0.1 ppm
2.3 ppm
84 ppm		 JIS K 0102 52.4 n.a. (Okuwaki et al., 2006)
109 ppm C8 – C28 6–30 ppm ICP-OES n.a. (Velghe et al., 2011)
Fe n.a. 55 °C – 180 °C
195 °C – 320 °C
250 °C – 500 °C
Full range + ash Solid residue		 <0.2 ppm
7.3 ppm
33 ppm
99 ppm
3200 ppm		 JIS K 0102 57.4 n.a. (Okuwaki et al., 2006)
K n.a. Solid residue 1300 ppm n.a. n.a. (Okuwaki et al., 2006)
1200 ppm C8 – C28 20–200 ppm ICP-OES n.a. (Velghe et al., 2011)
Mn n.a. Solid residue 160 ppm JIS K 0102 56.4 n.a. (Okuwaki et al., 2006)
Na n.a. Solid residue 3700 ppm n.a. n.a. (Okuwaki et al., 2006)
n.a. 55 °C – 180 °C
195 °C – 320 °C
250 °C – 500 °C
Full range + ash Solid residue		 0.8 ppm
ND
2.8 ppm
200 ppm
3300 ppm		 AAS n.a. (Okuwaki et al., 2006)
Ni n.a. Solid residue 32 ppm JIS K 0102 59.3 n.a. (Okuwaki et al., 2006)
Pb n.a. Solid residue 4 ppm n.a. n.a. (Kaminsky and Kim, 1999)
n.a. Solid residue 410 ppm n.a. n.a. (Okuwaki et al., 2006)
n.a. 70 °C – 460 °C 37 ppm JIS 0102 54.3 n.a. (Okuwaki et al., 2006)
n.a. Solid residue 33 ppm JIS K 0102 55.4 n.a. (Okuwaki et al., 2006)
n.a. C4 – C20
Distillation residue		 0.02 – 0.04 ppm
4.4 – 21.5 ppm		 ICP-OES n.a. (Cho et al., 2010)
Sb 749 ppm 118 °C – 376 °C 105 ppm EDXRF n.a. (Miskolczi et al., 2013)
n.a. C9 – C34
(30 °C – 324 °C)		 189 ppm EDXRF n.a. (Miskolczi and Ateş, 2016)
Si n.a. 55 °C – 180 °C
195 °C – 320 °C
250 °C – 500 °C
Full range + ash Solid residue		 <100 ppm
4 ppm
<50 ppm
2000 ppm
45000 ppm		 ICP-OES n.a. (Okuwaki et al., 2006)
Ti 284 ppm >C30 456 ppm EDXRF 1 ppm (Miskolczi et al., 2004)
Zn n.a. Solid residue 100 ppm n.a. n.a. (Kaminsky and Kim, 1999)
145 ppm >C30 254 ppm EDXRF 1 ppm (Miskolczi et al., 2004)
n.a. Solid residue 300 ppm n.a. n.a. (Okuwaki et al., 2006)
n.a. 55 °C – 180 °C
195 °C – 320 °C
250 °C – 500 °C
Full range + ash Solid residue		 0.6 ppm
ND
2.1 ppm
18 ppm
350 ppm		 JIS K 0102 53.3 n.a. (Okuwaki et al., 2006)
1310 ppm 118 °C – 376 °C 124 ppm EDXRF n.a. (Miskolczi et al., 2013)
472 ppm C8 – C28 <8 ppm ICP-OES n.a. (Velghe et al., 2011)
n.a. C4 – C20
Distillation residue		 0.03 – 0.18 ppm
5 – 24.3 ppm		 ICP-OES n.a. (Cho et al., 2010)